東口・森田研究室

情報電子オプティクスコース・電気電子分野

高繰り返し高出力レーザーを開発（自作）し，レーザー生成プラズマEUV光源や新しい光計測技術を駆使して，先端半導体分野や医用生体工学分野の研究を進めています．本研究室では，企業や大学・研究所との共同研究を積極的に行っています．

EUV光源を高効率化するためのマルチレーザー照射法 ― 先端半導体向けリソグラフィー用EUV光源の駆動レーザー負荷低減へ ―

****極端紫外 [Extreme ultraviolet (EUV)] 光源を高効率化するためのマルチレーザービーム照射法を提案し、EUV光源を高効率化できることを実験的に実証しました．